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      為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
      • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備
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      "產(chǎn)品中心
      為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
      AVP 電子束蒸鍍機(jī) SYSTEM
      -制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
      
-廣泛用于高熔點(diǎn)、高沸點(diǎn)材料處理，如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
      
-附著力強(qiáng)、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
      
-實(shí)踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝
      -制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
      
-廣泛用于高熔點(diǎn)、高沸點(diǎn)材料處理，如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
      
-附著力強(qiáng)、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
      
-實(shí)踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝
      AVP IBE System
      - 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。 
      
-  成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)  
      
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝  
      
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性
      - 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。 
      
-  成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)  
      
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝  
      
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性 
      
- 純物理刻蝕，采用惰性氣體為工藝氣體，環(huán)保、無(wú)污染，應(yīng)用廣泛
      AVP HR PVD System
      -高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
      
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
      
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
      
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
      
-高靶材使用率（>8
      -高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
      
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
      
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
      
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
      
-高靶材使用率（>80%）
      "支持與服務(wù)
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      "關(guān)于艾微普
      為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
      專(zhuān)注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備
      公司由美國(guó)硅谷企業(yè)家團(tuán)隊(duì)與國(guó)內(nèi)著名上市企業(yè)天通公司(TDG)合作，在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導(dǎo)體設(shè)備、工藝、材料專(zhuān)家，專(zhuān)注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備。

      
公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射（PVD）、離子束刻蝕機(jī)（IBE）、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE）、電子束蒸鍍機(jī)等系列MEMS、半導(dǎo)體、新能源器件制造專(zhuān)用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來(lái)，已經(jīng)獲得幾十項(xiàng)國(guó)家專(zhuān)利。
      公司總部
      中國(guó)浙江省嘉興市海寧市海昌街道芯中路6號(hào)16幢
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